Lithographie : le talon d'Achille géant des États-Unis face à la Chine

Nick Brown, cofondateur du Center for Technology and Statecraft (CTS), détaille dans le podcast ChinaTalk pourquoi la restriction des exportations de machines de lithographie DUV vers la Chine est le levier le plus efficace pour les États-Unis. Depuis 2024-, la Chine importe environ 90 systèmes d'immersion par an, soit près des deux tiers des expéditions totales d'ASML, comblant ainsi son retard en fabrication de semi-conducteurs. Si ce rythme se maintient, Pékin pourrait égaler la capacité américaine de production de puces IA en moins de dix ans. Le MATCH Act, discuté au Congrès, vise à fermer cette brèche en interdisant les ventes et la maintenance des DUV, et à obtenir le soutien des alliés comme les Pays-Bas. Brown estime qu'une restriction graduelle serait moins susceptible de déclencher des représailles chinoises (type crise des terres rares) qu'un embargo brutal. Pour les États-Unis, couper ce robinet permettrait de préserver leur avance en puissance de calcul jusqu'aux années 2030, leur donnant le temps de gérer les implications technologiques, géopolitiques et sociétales d'une IA toujours plus puissante — en particulier l'émergence d'une AGI.